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日本大冢量子效率測(cè)量系統(tǒng)QE-2100

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OTSUKA大冢激光粒度儀

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OTSUKA大冢-量子點(diǎn)評(píng)系統(tǒng)

OTSUKA大冢-量子點(diǎn)評(píng)系統(tǒng) 量子點(diǎn)材料具有根據(jù)粒子直徑不同發(fā)光波長(zhǎng)發(fā)生變化的特性。在本系統(tǒng)中，在評(píng)價(jià)粒子直徑以及分散穩(wěn)定性的同時(shí)，也可以對(duì)熒光特性進(jìn)行評(píng)價(jià)。 OTSUKA大冢-量子點(diǎn)評(píng)系統(tǒng)OTSUKA大冢-量子點(diǎn)評(píng)系統(tǒng)OTSUKA大冢-量子點(diǎn)評(píng)系統(tǒng)
日本大冢低相位差高速檢查設(shè)備

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OTSUKA大冢液晶層間隙量測(cè)設(shè)備

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日本OTSUKA大冢相位差膜?光學(xué)材料檢查設(shè)備

日本OTSUKA大冢相位差膜?光學(xué)材料檢查設(shè)備RETS-100 日本OTSUKA大冢相位差膜?光學(xué)材料檢查設(shè)備RETS-100 日本OTSUKA大冢相位差膜?光學(xué)材料檢查設(shè)備RETS-100
單元間隙檢測(cè)裝置RETS系列Otsuka

支持從反射/透射型 LCD 填充單元到帶濾色器的空單元的各種單元
彩色濾光片光譜特性測(cè)量?jī)xLCF系列Otsuka

非常適合FPD生產(chǎn)過(guò)程中的所有檢測(cè)，如濾色片光學(xué)特性檢測(cè)和玻璃基板膜厚檢測(cè)。
非接觸式光學(xué)深度計(jì) Emios Otsuka大冢

“一步操作”是一種追求用戶友好性的設(shè)備，無(wú)需任何繁重的工作，設(shè)置樣品即可立即看到結(jié)果。該設(shè)備旨在縮短檢測(cè)過(guò)程，無(wú)需校準(zhǔn)曲線即可高精度、高分辨率地輕松找到優(yōu)良厚度。由于使用了大冢電子開(kāi)創(chuàng)的光學(xué)方法，因此可以在不接觸的情況下高精度測(cè)量不透明、粗糙表面和容易變形的樣品，同時(shí)節(jié)省空間。
超快光譜干涉式測(cè)厚儀Otsuka大冢

它以非接觸方式測(cè)量晶片等的研磨和拋光過(guò)程，具有超高速、實(shí)時(shí)和高精度的晶片和樹(shù)脂。
光譜橢偏儀 FE-5000 / 5000S Otsuka大冢

除了可實(shí)現(xiàn)高精度薄膜分析的光譜橢偏儀外，我們還通過(guò)實(shí)施自動(dòng)可變測(cè)量機(jī)制支持所有類型的薄膜。除了傳統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)光子檢測(cè)器方法外，還通過(guò)為延遲板提供自動(dòng)安裝/拆卸機(jī)制來(lái)提高測(cè)量精度。
嵌入式膜厚監(jiān)控器Otsuk大冢蘇州售

實(shí)現(xiàn)具有波長(zhǎng)依賴性的高精度多層膜測(cè)量
膜厚監(jiān)測(cè)儀 FE-300 Otsuka大冢蘇州售

它是一種緊湊、低成本的薄膜厚度計(jì)，它通過(guò)簡(jiǎn)單的操作實(shí)現(xiàn)了高精度光學(xué)干涉測(cè)量的薄膜厚度測(cè)量。我們采用一體式外殼，將必要的設(shè)備安裝在主體中，實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的數(shù)據(jù)采集。通過(guò)以低廉的價(jià)格獲得**反射率，可以分析光學(xué)常數(shù)。

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