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氙氣閃光燈
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UV反轉(zhuǎn)曝光系統(tǒng)
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UV的水處理
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檢測系統(tǒng)
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光照射裝置
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點(diǎn)光源曝光
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變壓型電源供應(yīng)器
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超高壓短弧汞燈
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UV光洗凈
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UV曝光裝置
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uv固化裝置
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紫外可見光光度計
- *新的高靈敏度 APD 可提高靈敏度并縮短測量時間
- 通過自動溫度梯度測量進(jìn)行變性/相變溫度分析
- 可在 0 至 90°C 的寬溫度范圍內(nèi)進(jìn)行測量
- 支持懸浮高濃度樣品的Zeta電位測量
- 通過測量和繪圖分析，提供高精度的 Zeta 電位測量結(jié)果，用于測量單元中的電滲透流
- 支持高鹽濃度溶液的Zeta電位測量
- 支持小面積樣品的平板Zeta電位測量
它非常適合在界面化學(xué)、無機(jī)材料、半導(dǎo)體、聚合物、生物、制藥和醫(yī)學(xué)領(lǐng)域進(jìn)行基礎(chǔ)和應(yīng)用研究，不僅處理細(xì)顆粒，還處理薄膜和平板樣品的表面科學(xué)。
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新型功能材料
燃料電池相關(guān)（碳納米管、富勒烯、功能膜、催化劑、納米金屬）
生物納米相關(guān)（納米膠囊、樹突、DDS、生物納米顆粒）、納米氣泡等
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陶瓷和著色材料工業(yè)
陶瓷（二氧化硅、氧化鋁、氧化鈦等）
無機(jī)溶膠的表面改性、分散和聚合控制
顏料（炭黑和有機(jī)顏料）的分散和聚合控制
漿料樣品
彩色濾光片
懸浮礦物的收集材料吸附研究
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半導(dǎo)體領(lǐng)域
硅晶片表面異物附著的機(jī)理 闡明
研磨劑、添加劑與晶圓表面相互作用的研究
CMP漿料
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聚合物和化學(xué)工業(yè)
乳液（涂料和粘合劑）的分散和聚合控制、乳膠表面改性（醫(yī)藥和工業(yè)）
聚合物電解質(zhì)（聚苯乙烯磺酸鹽、聚羧酸等）的功能研究、功能性納米顆粒
造紙和紙漿造紙工藝控制以及紙漿添加劑研究
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制藥和食品工業(yè)
乳液（食品、香料、醫(yī)療和化妝品）的分散和聚集控制、蛋白質(zhì)功能
- 脂質(zhì)體和囊泡的分散和聚合控制、表面活性劑（云蘇）的功能
測量范圍
*1（Latex112nm：0.00001 至 10%，?；撬幔簙40%）
規(guī)格
測量原理
電泳光散射法（激光多普勒法）
光學(xué)
異質(zhì)光學(xué)
光源
大功率半導(dǎo)體激光器
探測器
高靈敏度 APD
單元格
標(biāo)準(zhǔn)單元、微量分配單元或濃縮單元
溫度
0 至 90°C（帶梯度功能）
電源
100V ± 10% 250VA
尺寸 （WDH）
380（W)×600（D)×210（H)
重量
22 kg
澤塔電位
-200 ～ +200 mV
電流動性
-2×10 -5 ～ 2×10 -5 cm2/V.s
測量溫度范圍
0 ～ 90℃
測量濃度范圍
澤塔電位：0.001%~40%
2.如有必要,請您留下您的詳細(xì)聯(lián)系方式!
