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    90. 產(chǎn)品詳情
      • 產(chǎn)品名稱:UVISEL PLUS橢圓偏振光譜儀研究級HORIBA一手

      • 產(chǎn)品型號: UVISEL PLUS
      • 產(chǎn)品廠商:HORIBA堀場
      • 產(chǎn)品價(jià)格:0
      • 折扣價(jià)格:0
      • 產(chǎn)品文檔:
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      簡單介紹:
      UVISEL PLUS橢圓偏振光譜儀研究級HORIBA一手UVISEL Plus橢圓偏振光譜儀為先進(jìn)薄膜、表面和界面表征提供了模塊化和性能的優(yōu)化組合。UVISEL Plus作為一款高準(zhǔn)確性、高靈敏度、高穩(wěn)定性的經(jīng)典橢偏機(jī)型,它采用了PEM 相位調(diào)制技術(shù),與機(jī)械旋轉(zhuǎn)部件技術(shù)相比, 能提供更好的穩(wěn)定性和信噪比。光譜范圍從190nm到2100nm。
      詳情介紹:

      UVISEL PLUS橢圓偏振光譜儀研究級HORIBA一手

      光譜范圍從FUV到NIR:190-2100nm

      UVISEL Plus橢圓偏振光譜儀為先進(jìn)薄膜、表面和界面表征提供了模塊化和性能的優(yōu)化組合。

      UVISEL Plus作為一款高準(zhǔn)確性、高靈敏度、高穩(wěn)定性的經(jīng)典橢偏機(jī)型,它采用了PEM 相位調(diào)制技術(shù),與機(jī)械旋轉(zhuǎn)部件技術(shù)相比, 能提供更好的穩(wěn)定性和信噪比。光譜范圍從190nm到2100nm。

      UVISEL Plus集成了全新的FastAcqTM快速采集技術(shù),可在3分鐘以內(nèi)實(shí)現(xiàn)高分辨的樣品測試(190-2100 nm),校準(zhǔn)僅需幾分鐘?;谌碌碾娮釉O(shè)備,數(shù)據(jù)處理和高速單色儀,F(xiàn)astAcq技術(shù)能夠?yàn)橛脩籼峁└叻直婕翱焖俚臄?shù)據(jù)采集。FastAcq專門為薄膜表征設(shè)計(jì),雙調(diào)制技術(shù)可以確保您獲得優(yōu)異的測試結(jié)果。

      相位調(diào)制技術(shù)的獨(dú)有特點(diǎn)為高頻調(diào)制 50 kHz,信號采集過程無移動部件:

      • 測試全范圍的橢偏角,Ψ (0-90),Δ (0-360)
      • 從FUV到NIR具有優(yōu)良的信噪比
      • 數(shù)據(jù)采集速度快,高達(dá)50毫秒/點(diǎn),是動力學(xué)研究和在線測量的理想選擇

       

      相比于采用 旋轉(zhuǎn)元件調(diào)制的傳統(tǒng)橢圓偏振光譜儀,UVISEL Plus的相位調(diào)制模式在表征薄膜方面具有更高的靈敏度和精度。它不僅可以探測到其他橢偏儀無法觀測到的極薄膜或界面,還可以表征50μm的厚膜。

      在測試有背反射的透明樣品時(shí),測試簡單、準(zhǔn)確,無需刮花背面。

      UVISEL Plus還設(shè)計(jì)有多種附件及可選功能,便于客戶根據(jù)應(yīng)用需求及預(yù)算選擇合適的配置。比如,微光斑用于圖案樣品、自動變角器、自動樣品臺等。

      UVISEL Plus采用模塊化設(shè)計(jì),可靈活擴(kuò)展。即可用于離線臺式測量,也可以耦合于鍍膜設(shè)備做在線監(jiān)控。

      UVISEL Plus可根據(jù)習(xí)慣選擇操作界面,一個(gè)是 DeltaPsi2  具有建模和擬合處理功能;另一個(gè)是 Auto-Soft 用戶導(dǎo)向的全自動樣品測試界面 ,工作流程直觀,易于非專業(yè)人士操作。

      UVISEL Plus搭載FastAcq技術(shù)是材料研究和加工、平板顯示、微電子和光伏領(lǐng)域中優(yōu)選通用光譜型橢偏儀。

      UVISEL Plus是材料科學(xué)研究的理想工具。

      產(chǎn)品優(yōu)勢

      • 高精度和高靈敏度
      • 模塊化設(shè)計(jì)
      • 寬光譜范圍: 190-2100 nm
      • 集數(shù)據(jù)測量、建模和自動化操作為一體的軟件包

       

      獲得的信息

      • 膜層厚度,從1?到50 μm
      • 表面和界面粗糙度
      • 光學(xué)常數(shù) (n,k) ,適用于各向同/異性和漸變層
      • 光學(xué)特性如:吸收系數(shù)α, 光學(xué)帶隙Eg
      • 材料性能:合金成分、孔隙率、結(jié)晶度及形貌等
      • 穆勒矩陣
      • 退偏

      UVISEL 規(guī)格

      • 光譜范圍:標(biāo)配190-885nm,可擴(kuò)展至近紅外2100nm
      • 檢測系統(tǒng):高分辨率光譜儀配合高靈敏探測器

       

       手動配置

      • 光斑尺寸:0.05 – 0.1 – 1 mm(針孔)
      • 樣品臺:直徑150mm,手動調(diào)節(jié)高度(20mm)和傾角
      • 卡位量角器:手動調(diào)節(jié)角度,從55°到90°,步徑5°

       

       自動配置

      • 光斑尺寸:0.05 - 0.1 - 1 mm或0.08 - 0.12 - 0.25 - 1.2 mm(針孔)
      • 自動樣品平臺:200 x 200mm或300 x 300mm,手動調(diào)節(jié)高度(4mm)和傾角;XYZ樣品臺,theta平臺
      • 自動量角器:自動調(diào)節(jié)角度,從45°到90°,步徑0.01°

       

       集成型量角器

      • 手動調(diào)節(jié)入射角度,從35°到90°,步徑5°
      • 樣品臺:直徑150mm,手動調(diào)節(jié)高度(20mm)
      • 自動準(zhǔn)直系統(tǒng)(可選)
      • 尺寸: 25cm*21cm*35cm

       

       在線配置

      • 機(jī)械適配器:CF35或KF40法蘭
      • 易于在在線和離線配置間更改
      • 更多信息

       

       選配

      • 附件:冷熱臺、液體樣品池、電化學(xué)反應(yīng)池、反射模塊(測試0°入射的反射率)等
      • 可視化:CCD攝像機(jī)

       

      性能

      • 準(zhǔn)確度:Ψ= 45°±0.01°和Δ=0°±0.01°,空氣對射1.5 - 5.3 eV
      • 重復(fù)性:NIST 1000? SiO2/Si (190-2100 nm),d±0.1%,n(632.8nm)±0.0001


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