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產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹：
●12英寸~56張/時(shí)的吞吐量
●采用SiC托盤(pán)的重金屬污染對(duì)策
詳情介紹：
特點(diǎn)
它是傳統(tǒng) AMAX 系列的*大直徑 12 英寸晶圓處理設(shè)備。
A63 型分散頭
中的 SiH 經(jīng)過(guò)優(yōu)化，可在低溫常壓下更有效地進(jìn)行熱化學(xué)反應(yīng)4, PH3, B2H6和 O2分散后混合和表面反應(yīng)的后混合方法，
提供優(yōu)異的薄膜厚度均勻性和雜質(zhì)濃度均勻性。
SiC 托盤(pán)的采用使重金屬污染不難發(fā)生。 此外，由于熱量，工藝性能
穩(wěn)定，老化較少。
標(biāo)準(zhǔn)配備托盤(pán)自動(dòng)更換功能，可縮短操作員的**性和維護(hù)時(shí)間。
此外，通過(guò)采用自動(dòng)提升頭底座的機(jī)制，可以輕松進(jìn)行
清潔。
性能
| 薄膜厚度均勻性 | ≦±3.0% | |||||||||||||||||
| 支持的晶圓尺寸 | 12 英寸 | |||||||||||||||||
| 氣體種類(lèi) | SiH4, O2, PH3, B2H6, N2 | |||||||||||||||||
| 沉積溫度 | 350～430℃ | |||||||||||||||||
| 生產(chǎn)力 | ~56張/小時(shí) | |||||||||||||||||
主要規(guī)格
| 設(shè)備尺寸 | 2165mm(W) x 4788mm(D) x 2250mm(H) | |||||||||||||||||
| 加熱機(jī)構(gòu) | 電阻加熱 | |||||||||||||||||
| 卸載 | 機(jī)器人CtoC輸送 | |||||||||||||||||
|
分散頭 （氣體噴嘴） |
A63 頭（標(biāo)準(zhǔn) 3 頭） | |||||||||||||||||
天津代理AMAYA天谷制作所12 英寸連續(xù)常壓CVD設(shè)備AMAX1200
昆山代理AMAYA天谷制作所12 英寸連續(xù)常壓CVD設(shè)備AMAX1200
上海代理AMAYA天谷制作所12 英寸連續(xù)常壓CVD設(shè)備AMAX1200
蘇州代理AMAYA天谷制作所12 英寸連續(xù)常壓CVD設(shè)備AMAX1200
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