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    90. 產(chǎn)品詳情
      • 產(chǎn)品名稱:日本USHIO牛尾分體式投影曝光設(shè)備UX-5/ UX-7

      • 產(chǎn)品型號:
      • 產(chǎn)品廠商:USHIO牛尾
      • 產(chǎn)品價格:0
      • 折扣價格:0
      • 產(chǎn)品文檔:
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      簡單介紹:
      日本USHIO牛尾分體式投影曝光設(shè)備UX-5 系列 塔瑪薩崎(蘇州)電子有限公司
      詳情介紹:
      開創(chuàng)TTL非曝光波長/對準(zhǔn)方式
      由于Ushio的磚利技術(shù)“TTL非曝光法波長對準(zhǔn)”,觀察掩模標(biāo)記時,基板上的對準(zhǔn)標(biāo)記沒有曝光。此外,由于可以直接觀察工件標(biāo)記,因此不會因掩膜而降低對比度,并且可以進行清晰標(biāo)記的高精度對準(zhǔn)。
      支持各種對齊標(biāo)記
      由于注冊圖案是“圖案匹配兼容”,因此可以與各種布線圖案對齊,而無需專用對齊標(biāo)記。
      高分辨率
      配備 Ushio 的投影鏡頭“UPL 系列”以實現(xiàn)高分辨率。支持線和空間=5μm的設(shè)計規(guī)則的全 面量產(chǎn)。
      深い焦點深度
      由于焦深較深(± 50 至 100 μm),因此即使因基板的臺階、翹曲和膨脹而導(dǎo)致散焦,也可以獲得與剛剛聚焦相當(dāng)?shù)膱D案輪廓。它在暴露厚的干膜和阻焊劑時特別有效。
      表面階段的高速步進和重復(fù)
      通過使用精密空氣軸承消除摩擦并通過使用表面電機結(jié)構(gòu)降低運動部件的重量和剛度,實現(xiàn)了高速步進和重復(fù)操作。此外,表面平臺通過激光干涉儀進行反饋控制,實現(xiàn)了高速運行和高定位精度。
      面罩無損
      由于掩模和工件是非接觸式投影曝光方法,因此不會因抗蝕劑的粘附而損壞掩模。除了防止布線圖案缺陷外,掩模還可以半長久性使用,從而降低運行成本。此外,無需清洗掩膜版,與緊密接觸式曝光設(shè)備相比,預(yù)計設(shè)備利用率會有所提高。
      保持高堆疊精度以應(yīng)對板收縮和翹曲
      “自動縮放功能”可根據(jù)板子的收縮和翹曲自動將投影放大倍率縮放至 0.1%,對其進行校正并大大減少錯位。

      型號列表

      FC-BGA
      FC-CSP
      Interposer
      2.1D
      2.5D
      封裝
      半導(dǎo)體后處理
      RDL
      鈍化
      TSV
      TSV底孔
      印刷電路板
      UX-7 系列陣容
      型式 UX7-Square70
      曝光區(qū) □70毫米
      板尺寸 ~□530毫米
      面具 6英寸
      解析力 2μm L/S
      露光波長 我線

      ■ 分辨能力:可分辨高達2 μm L/S

      抗蝕劑厚度   5微米
      露光量  150mJ/cm 2

      ■ 曝光面積:70 x 70 mm


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