以非接觸方式測(cè)量晶圓等的研磨和拋光工藝,超高速、實(shí)時(shí)、高精度測(cè)量晶圓和樹(shù)脂
產(chǎn)品詳細(xì)信息
特點(diǎn)
非接觸式,非破壞性厚度測(cè)量
反射光學(xué)系統(tǒng)(可從一側(cè)接觸測(cè)量)
高速(*高5 kHz)實(shí)時(shí)評(píng)測(cè)
高穩(wěn)定性(重復(fù)精度低于0.01%)
耐粗糙度強(qiáng)
可對(duì)應(yīng)任意距離
支持多層結(jié)構(gòu)(*多5層)
內(nèi)置NG數(shù)據(jù)消除功能
可進(jìn)行距離(形狀)測(cè)量(使用配件嵌入式傳感器)*
*通過(guò)測(cè)量測(cè)量范圍內(nèi)的光學(xué)距離
Point1:獨(dú)有技術(shù)
對(duì)應(yīng)廣范圍的薄膜厚度并實(shí)現(xiàn)高波長(zhǎng)分辨率。 采用大塚電子獨(dú)有技術(shù)制成緊湊機(jī)身。
Point2:高速對(duì)應(yīng)
即使是移動(dòng)物體也可利用準(zhǔn)確的間距測(cè)量,
是工廠生產(chǎn)線的理想選擇。
Point3:各種表面條件的樣品都可對(duì)應(yīng)
從20微米的小斑點(diǎn)到
各種表面條件的樣品,都可進(jìn)行厚度測(cè)量。
Point4:各種環(huán)境都可對(duì)應(yīng)
因?yàn)?遠(yuǎn)可以從200 mm的位置進(jìn)行測(cè)量,
所以可根據(jù)目的和用途構(gòu)建測(cè)量環(huán)境。
測(cè)定項(xiàng)目
厚度測(cè)量(5層)
用途
各種厚膜的厚度
式樣
*1 : 測(cè)量條件以及解析條件不同,*小取樣周期也不同。 *2 : 是產(chǎn)品出貨基準(zhǔn)的保證值規(guī)格,是當(dāng)初基準(zhǔn)樣品AirGap約300μm和 約1000μm測(cè)量時(shí)的相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差( n = 20 ) *3 : WD50mm探頭式樣時(shí)的設(shè)計(jì)值 *4 : 特別式樣 *5 : 薄膜測(cè)量時(shí)使用 ※CE取得品是SF-3/300、SF-3/1300
基本構(gòu)成
測(cè)定例
貼合晶圓
Mapping結(jié)果 研削后300mm晶圓硅厚度
蘇公網(wǎng)安備 32050502000409號(hào)