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      日本HORIBA堀場制作所:橢圓偏振光譜儀

      日期:2025-07-04 16:18
      瀏覽次數(shù):131
      摘要:日本HORIBA堀場堀場制作所:日本HORIBA堀場橢圓偏振光譜儀,日本HORIBA堀場橢偏儀,橢圓偏振光譜儀(ellipsometer),簡稱橢偏儀,是一種利用材料的光學(xué)特性進(jìn)行光學(xué)常數(shù)、微結(jié)構(gòu)分析和薄膜厚度測量的一種儀器。由于橢偏儀的測量過程不需要與樣品直接接觸,不會(huì)對(duì)材料表面造成損壞,也不需要真空環(huán)境,因此它成為一種簡便、快捷、易于實(shí)現(xiàn)的材料測量儀器。 橢偏儀的主要分析材料為半導(dǎo)體材料、電介質(zhì)、聚合物材料等。而且由于橢偏測量技術(shù)作為一種無損測試技術(shù),對(duì)材料的表面損傷很小,因此也可以被用作生物樣品的表面檢測。

      堀場(中國)貿(mào)易有限公司是HORIBA集團(tuán)在中國的總部。
      1996年2月,HORIBA堀場制作所 [3] 在北京來開設(shè)了駐華辦事處,為進(jìn)入中國市場做準(zhǔn)備。2002年7月,作為堀場(HORIBA)集團(tuán)在中國的生產(chǎn)銷售和售后服務(wù)的據(jù)點(diǎn),獨(dú)資企業(yè)“堀場儀器(上海)有限公司 [2]  ”正式成立。在此基礎(chǔ)上,2004年,為統(tǒng)轄中國區(qū)業(yè)務(wù),“堀場(中國)貿(mào)易有限公司”應(yīng)運(yùn)而生。

      日本HORIBA堀場制作所:橢圓偏振光譜儀


      薄膜表征的有效技術(shù)
      橢圓偏振光譜是一種表面敏感、非破壞性、非侵入性的光學(xué)技術(shù),廣泛應(yīng)用于薄層和表面特征。它基于線偏振光經(jīng)過薄膜樣品反射后偏振狀態(tài)發(fā)生的改變,通過模型擬合獲得厚度以及光學(xué)常數(shù)等。根據(jù)薄膜材料的不同,可測量的厚度從幾個(gè)?到幾十微米。橢圓偏振光譜是一種很好的多層膜測量技術(shù)。

      橢圓偏振光譜儀可以表征薄膜的一系列特性,如膜厚、光學(xué)特性(n,k)、光學(xué)帶隙、界面和粗糙度厚度,薄膜組成,膜層均一性,等等。

      日本HORIBA堀場制作所:橢圓偏振光譜儀

      橢圓偏振光譜適合分析的材料包括半導(dǎo)體、電介質(zhì)、聚合物、有機(jī)物和金屬。也可用于研究固-液或液-液界面。
      HORIBA橢圓偏振光譜儀采用新型高頻偏振調(diào)制技術(shù),測試過程中無任何機(jī)械旋轉(zhuǎn)。與傳統(tǒng)橢偏儀相比,更快的測試速度、更寬的測量范圍以及更高的表征精度。

      Auto SE - 自動(dòng)化薄膜測量工具一鍵式全自動(dòng)快速HORIBA堀場橢偏儀


      日本HORIBA堀場制作所:橢圓偏振光譜儀

      Auto SE是一種新型薄膜測量工具。僅需簡單的幾個(gè)按鈕,幾秒鐘內(nèi)即可自動(dòng)完成樣品測量和分析,并提供完整的薄膜特性分析報(bào)告,包括薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)、表面粗糙度和薄膜的不均勻性、反射率或透過率。
      Auto SE全自動(dòng)化設(shè)計(jì)、一鍵式操作,功能齊全。配備自動(dòng)XYZ樣品臺(tái)進(jìn)行成像分析,自動(dòng)切換微光斑,多種附件可選,以滿足不同的應(yīng)用需求。
      Auto SE借助完整的操作向?qū)?,自?dòng)檢測并診斷問題,對(duì)故障進(jìn)行處理,儀器維護(hù)簡單
      Auto SE是用于快速薄膜測量和器件質(zhì)量控制理想的解決方案。
      光譜范圍:440-1000nm
      光斑尺寸:7個(gè)尺寸微光斑全自動(dòng)切換500x500 μm; 250x500 μm; 250x250 μm; 70x250 μm; 100x100 μm; 50x60 μm; 25x60 μm
      探測系統(tǒng):CCD,分辨率2nm
      樣品臺(tái):真空吸盤,Z軸行程40mm
      光斑可視系統(tǒng):CCD攝像機(jī)-視野1.33x1 mm-分辨率10μm
      量角器:固定角70°,也可選擇66°或61.5°
      多種附件可選
      測試時(shí)間:<2s,常規(guī)為5s
      準(zhǔn)確性:NIST 100nm d ± 4?, n(632.8nm) ± 0.002
      重復(fù)性:NIST 15nm ± 0.2 ?


      日本HORIBA堀場制作所:橢圓偏振光譜儀

      HORIBA堀場橢圓偏振光譜儀(ellipsometer),簡稱橢偏儀,是一種利用材料的光學(xué)特性進(jìn)行光學(xué)常數(shù)、微結(jié)構(gòu)分析和薄膜厚度測量的一種儀器。由于橢偏儀的測量過程不需要與樣品直接接觸,不會(huì)對(duì)材料表面造成損壞,也不需要真空環(huán)境,因此它成為一種簡便、快捷、易于實(shí)現(xiàn)的材料測量儀器。

      橢偏儀的主要分析材料為半導(dǎo)體材料、電介質(zhì)、聚合物材料等。而且由于橢偏測量技術(shù)作為一種無損測試技術(shù),對(duì)材料的表面損傷很小,因此也可以被用作生物樣品的表面檢測。


      UVISEL PLUSHORIBA堀場橢圓偏振光譜儀
      研究級(jí)經(jīng)典型橢偏儀
      光譜范圍從FUV到NIR:190-2100nm
      UVISEL Plus橢圓偏振光譜儀為先進(jìn)薄膜、表面和界面表征提供了模塊化和性能的優(yōu)化組合。
      UVISEL Plus作為一款高準(zhǔn)確性、高靈敏度、高穩(wěn)定性的經(jīng)典橢偏機(jī)型,它采用了PEM 相位調(diào)制技術(shù),與機(jī)械旋轉(zhuǎn)部件技術(shù)相比, 能提供更好的穩(wěn)定性和信噪比。光譜范圍從190nm到2100nm。
      UVISEL Plus集成了全新的FastAcqTM快速采集技術(shù),可在3分鐘以內(nèi)實(shí)現(xiàn)高分辨的樣品測試(190-2100 nm),校準(zhǔn)僅需幾分鐘?;谌碌碾娮釉O(shè)備,數(shù)據(jù)處理和高速單色儀,F(xiàn)astAcq技術(shù)能夠?yàn)橛脩籼峁└叻直婕翱焖俚臄?shù)據(jù)采集。FastAcq專門為薄膜表征設(shè)計(jì),雙調(diào)制技術(shù)可以確保您獲得優(yōu)異的測試結(jié)果。
      相位調(diào)制技術(shù)的獨(dú)有特點(diǎn)為高頻調(diào)制 50 kHz,信號(hào)采集過程無移動(dòng)部件:
      測試全范圍的橢偏角,Ψ (0-90),Δ (0-360)
      從FUV到NIR具有優(yōu)良的信噪比
      數(shù)據(jù)采集速度快,高達(dá)50毫秒/點(diǎn),是動(dòng)力學(xué)研究和在線測量的理想選擇
      相比于采用 旋轉(zhuǎn)元件調(diào)制的傳統(tǒng)橢圓偏振光譜儀,UVISEL Plus的相位調(diào)制模式在表征薄膜方面具有更高的靈敏度和精度。它不僅可以探測到其他橢偏儀無法觀測到的極薄膜或界面,還可以表征50μm的厚膜。
      在測試有背反射的透明樣品時(shí),測試簡單、準(zhǔn)確,無需刮花背面。
      UVISEL Plus還設(shè)計(jì)有多種附件及可選功能,便于客戶根據(jù)應(yīng)用需求及預(yù)算選擇合適的配置。比如,微光斑用于圖案樣品、自動(dòng)變角器、自動(dòng)樣品臺(tái)等。
      UVISEL Plus采用模塊化設(shè)計(jì),可靈活擴(kuò)展。即可用于離線臺(tái)式測量,也可以耦合于鍍膜設(shè)備做在線監(jiān)控。
      UVISEL Plus可根據(jù)習(xí)慣選擇操作界面,一個(gè)是 DeltaPsi2 具有建模和擬合處理功能;另一個(gè)是 Auto-Soft 用戶導(dǎo)向的全自動(dòng)樣品測試界面 ,工作流程直觀,易于非專業(yè)人士操作。
      UVISEL Plus搭載FastAcq技術(shù)是材料研究和加工、平板顯示、微電子和光伏領(lǐng)域中優(yōu)選通用光譜型橢偏儀。
      UVISEL Plus是材料科學(xué)研究的理想工具。


      日本HORIBA堀場制作所:橢圓偏振光譜儀

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