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      日本AMAYA天谷 半導(dǎo)體、太陽(yáng)能電池制造設(shè)備

      日期:2025-07-04 08:36
      瀏覽次數(shù):862
      摘要:社名:株式會(huì)社天谷製作所?。ˋMAYA CO.,LTD.) 所在地:越谷工場(chǎng):〒343-0822 埼玉県越谷市西方3149-1 福生工場(chǎng):〒197-0003 東京都福生市熊川1598 臺(tái)灣事務(wù)所:臺(tái)灣 臺(tái)北市松山區(qū)復(fù)興北路369號(hào) 4F 主事業(yè):半導(dǎo)體、太陽(yáng)能電池制造設(shè)備等的制造和銷售,以及此類設(shè)備的售后服務(wù) 主要產(chǎn)品:常壓CVD設(shè)備、光掩模清洗設(shè)備等 近年來(lái),物聯(lián)網(wǎng)的發(fā)展非常顯著,我們已經(jīng)能夠享受到無(wú)處不在的便捷服務(wù)。 該技術(shù)的核心是感知、獲取、處理和分析大量數(shù)據(jù)的技術(shù),為此,有必要加速引入傳感器、人工智能和下一代高速通信等新技術(shù)**和技術(shù),并且需要各種各樣的半導(dǎo)體器件來(lái)支持這一點(diǎn)。 自1970年開始開發(fā)和銷售常壓CVD設(shè)備以來(lái),我們?yōu)榘雽?dǎo)體制造和研發(fā)工藝的質(zhì)量改進(jìn)和生產(chǎn)率提高做出了貢獻(xiàn)。 2010年,我們將這項(xiàng)技術(shù)擴(kuò)展到太陽(yáng)能電池,并作為常壓CVD技術(shù)領(lǐng)域的專業(yè)人士繼續(xù)接受挑戰(zhàn)。 2019年,作為渡邊商工集團(tuán)業(yè)務(wù)重組的一部分,我們接管了Tomco株式會(huì)社的設(shè)備業(yè)務(wù),并接管了光掩模清潔設(shè)備的制造和銷售業(yè)務(wù)。 未來(lái),作為常壓CVD設(shè)備行

      社名:株式會(huì)社天谷製作所?。ˋMAYA CO.,LTD.)

      所在地:越谷工場(chǎng):〒343-0822 埼玉県越谷市西方3149-1
      福生工場(chǎng):〒197-0003 東京都福生市熊川1598
      臺(tái)灣事務(wù)所:臺(tái)灣 臺(tái)北市松山區(qū)復(fù)興北路369號(hào) 4F

      主事業(yè):半導(dǎo)體、太陽(yáng)能電池制造設(shè)備等的制造和銷售,以及此類設(shè)備的售后服務(wù)

      主要產(chǎn)品:常壓CVD設(shè)備、光掩模清洗設(shè)備等


      近年來(lái),物聯(lián)網(wǎng)的發(fā)展非常顯著,我們已經(jīng)能夠享受到無(wú)處不在的便捷服務(wù)。 該技術(shù)的核心是感知、獲取、處理和分析大量數(shù)據(jù)的技術(shù),為此,有必要加速引入傳感器、人工智能和下一代高速通信等新技術(shù)**和技術(shù),并且需要各種各樣的半導(dǎo)體器件來(lái)支持這一點(diǎn)。

      自1970年開始開發(fā)和銷售常壓CVD設(shè)備以來(lái),我們?yōu)榘雽?dǎo)體制造和研發(fā)工藝的質(zhì)量改進(jìn)和生產(chǎn)率提高做出了貢獻(xiàn)。 2010年,我們將這項(xiàng)技術(shù)擴(kuò)展到太陽(yáng)能電池,并作為常壓CVD技術(shù)領(lǐng)域的專業(yè)人士繼續(xù)接受挑戰(zhàn)。

      2019年,作為渡邊商工集團(tuán)業(yè)務(wù)重組的一部分,我們接管了Tomco株式會(huì)社的設(shè)備業(yè)務(wù),并接管了光掩模清潔設(shè)備的制造和銷售業(yè)務(wù)。
      未來(lái),作為常壓CVD設(shè)備行業(yè)的利基***,我們將繼續(xù)提供有助于提高客戶制造和研發(fā)過(guò)程的質(zhì)量和生產(chǎn)率的設(shè)備和服務(wù),并將努力開發(fā),制造和銷售光掩模清潔設(shè)備等,從而通過(guò)半導(dǎo)體業(yè)務(wù)的發(fā)展為建設(shè)繁榮舒適的社會(huì)做出貢獻(xiàn)。


      常壓CVD設(shè)備


      <產(chǎn)品功能>


      • 適用于半導(dǎo)體制造和太陽(yáng)能電池制造等各種應(yīng)用
      • 從小批量生產(chǎn)到大批量生產(chǎn)
      • 形成各種薄膜類型,如SiO 2,BPSG,BSG,PSG等。
      • 通過(guò)使用碳化硅托盤防止重金屬污染
      • 可從低溫 (200°C) 到中溫 (500°C) 進(jìn)行廣泛的薄膜沉積


      半導(dǎo)體制造設(shè)備


      A200V單晶圓常壓CVD裝置    


      特征


      • 在這種方法中,晶圓沉積表面被上卡盤夾住,晶圓朝向底部,工藝氣體從底部的分散頭吹出形成薄膜。 卡盤提高了晶圓內(nèi)溫度均勻性,并提供出色的厚度均勻性,同時(shí)防止氣體包圍晶圓背面,防止背面沉積并防止顆粒粘附在晶圓上并進(jìn)入腔室。
      • 設(shè)備尺寸已盡可能緊湊,以*大程度地減少占用空間。
      • 使用封閉腔室可消除氣體泄漏并提高操作員的**性。




        AMAX800V8英寸連續(xù)常壓CVD設(shè)備量產(chǎn)


      • 8英寸 每小時(shí) 100 張的高吞吐量
      • 使用SiC托盤的重金屬污染對(duì)策和長(zhǎng)期穩(wěn)定的工藝
      • 提高可維護(hù)性




      AMAX120012“ 連續(xù)常壓CVD機(jī)用于批量生產(chǎn)        


      • 12 英寸 每小時(shí) 51 張的吞吐量
      • 采用SiC托盤防止重金屬污染的對(duì)策


       A6300S用于小直徑晶圓連續(xù)生產(chǎn)的常壓CVD設(shè)備

      • 6 英寸 吞吐量為每小時(shí) 120 張
      • 采用SiC托盤防止重金屬污染的對(duì)策







      定制設(shè)備

      D501間歇式常壓CVD機(jī)





      太陽(yáng)能電池設(shè)備

      AMAX1000S125mm/156mm太陽(yáng)能電池量產(chǎn)連續(xù)常壓CVD設(shè)備


      • 156 毫米方形 1500 張/小時(shí)吞吐量
      • 采用SiC托盤防止重金屬污染的對(duì)策,以及通過(guò)改善托盤支架防止背面環(huán)繞的措施

      特征


      • 可以使用滿足太陽(yáng)能電池生產(chǎn)需求的超批量生產(chǎn)設(shè)備運(yùn)輸156mm x 156mm方形基板和125mm x 125mm方形基板。
      • 我們開發(fā)了可實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)的專用分散頭,以及實(shí)現(xiàn)超高速輸送的雙臂輸送機(jī)構(gòu)。 此外,還增加了燈管加熱機(jī)構(gòu),以實(shí)現(xiàn)超高速和晶圓溫度均勻性。
      • 我們開發(fā)了一種特殊的晶圓支架,用于高效加熱太陽(yáng)能電池的薄晶圓。
      • 卸料器部分使用多級(jí)Bernui卡盤來(lái)分離晶圓和托盤,并且還具有冷卻功能。





      玻璃基板沉積設(shè)備

      用于剛性和柔性設(shè)備(如FPD)的常壓CVD設(shè)備


      • 低溫(150~300°C)處理
      • 高質(zhì)量 SiO2 成膜低應(yīng)力
        、等離子體損傷、小顆粒
      • 占地面積小,降低了安裝和維護(hù)成本
        ,無(wú)需真空或等離子處理
      • 低價(jià)







      光掩模清洗設(shè)備.


      • 清潔溶液高速擴(kuò)散到清潔表面
      • 快速消除異物和反應(yīng)產(chǎn)物
      • 無(wú)水痕干燥







      特征

      • 隨著LSI變得越來(lái)越復(fù)雜,光掩模/光罩需要更高的清晰度和準(zhǔn)確性。 我們的清洗設(shè)備有助于這些產(chǎn)品的高清潔度和產(chǎn)量提高,并合作生產(chǎn)更完整的產(chǎn)品。
      • 配備使用功能水的旋轉(zhuǎn)清洗單元,該單元可以通過(guò)工件旋轉(zhuǎn)的離心力、臭氧水和添加氨的氫水排放去除有機(jī)物、金屬離子和異物,直至檢測(cè)極限水平。 通過(guò)切換和清潔每個(gè)清潔溶液,可以高速去除工件上的不純沉積物,廢液管理也是一種**的環(huán)境響應(yīng)工具。
      • 采用
        替代RCA清洗液的清洗液和清洗方法 SPM→臭氧水 ?實(shí)現(xiàn)完整的室溫清洗(無(wú)需高溫工藝) ?減少口罩
        上化學(xué)溶液的殘留量
        ?廢液處理的**性(ISO14000措施)


        SC-1 → 含氨的氫水
        ?MoSi半色調(diào)掩膜的蝕刻預(yù)防









      蘇公網(wǎng)安備 32050502000409號(hào)