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數(shù)字錄音機(jī)
保守檢測(cè)用探傷器
異物判斷器
教學(xué)用探傷器
渦電流探傷器
ORC歐阿希
UV照射裝置
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磁粉探傷器
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數(shù)據(jù)收集器
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表面欠缺檢出器
外徑凹凸檢出器
外徑測(cè)定器
SUGAWARA菅原
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產(chǎn)品名稱：OTSUKA大塚橢圓光譜儀 FE-5000/5000S
產(chǎn)品型號(hào)：
產(chǎn)品廠商：OTSUKA大塚電子
產(chǎn)品價(jià)格：
0
折扣價(jià)格：
0
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簡(jiǎn)單介紹：
塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司OTSUKA大塚 Zeta電位，粒徑，分子量測(cè)量系統(tǒng) ELSZneo OTSUKA大塚橢圓光譜儀 FE-5000/5000S
詳情介紹：
特征
可在紫外可見(jiàn)光（300~800nm）波長(zhǎng)范圍內(nèi)進(jìn)行橢圓參數(shù)測(cè)量。
能夠?qū){米量級(jí)的多層薄膜進(jìn)行膜厚分析
通過(guò) 400 個(gè)或更多通道的多通道光譜快速測(cè)量橢圓光譜
用于薄膜詳細(xì)分析的可變反射角測(cè)量
通過(guò)創(chuàng)建光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)和添加配方注冊(cè)功能來(lái)提高可操作性
測(cè)量項(xiàng)目
橢圓參數(shù) （tanψ， cosΔ） 測(cè)量
光學(xué)常數(shù)（n：折射率，k：消光系數(shù)）分析
膜厚分析
測(cè)量對(duì)象
半導(dǎo)體晶片
柵極氧化薄膜、氮化物薄膜
SiO
2
，Si x O
y
，SiN，SiON，SiN
x
，Al
2
O
3
罪
x
O
y
，多晶硅，硒化鋅，BPSG，TiN
光刻膠光學(xué)常數(shù)（波長(zhǎng)色散）
化合物半導(dǎo)體
鋁
x
加語(yǔ)
（1-x）
作為多層，非晶硅
FPD
取向膜
各種新材料
DLC（類金剛石碳）、超導(dǎo)薄膜、磁頭薄膜
光學(xué)薄膜
TiO
2
，SiO
2
，防反射膜
在 G 線 （436nm）、H 線 （405nm） 和 I 線 （365nm）
等波長(zhǎng)下進(jìn)行
光刻 N，K
評(píng)估
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