4.5 代玻璃基板沉積設(shè)備,支持剛性和柔性設(shè)備,如 FPD。
搭載了2臺成膜有效寬度760mm的氣頭,采用吸附式加熱臺, 實現(xiàn)了溫度控制性±3%以內(nèi)。
4.5 代玻璃基板可在 250°C 下以 25 片/小時或更高的吞吐量沉積 100nm SiO2 膜, 確保薄膜厚度均勻性在 10% 以內(nèi)。
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