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產(chǎn)品中心

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產(chǎn)品詳情

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產(chǎn)品名稱：AMAYA天谷制作所高性能單片式常壓CVD裝置A200V
產(chǎn)品型號：
產(chǎn)品廠商：AMAYA天谷制作所
產(chǎn)品價格：0
折扣價格：0
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簡單介紹：

氣相沉積設備 ● ±2%以內(nèi)的膜厚均勻性 ● 低溫工藝對應 ● 抑制顆粒產(chǎn)生 ● 提高維護性 ● 緊湊的裝置結(jié)構(gòu) ● 提高 **性 ● 良好的臺階覆蓋性

詳情介紹：

概述

在密封室中，晶圓的沉積表面通過上部夾頭向下部保持并加熱，
同時從底部的分散頭吹出工藝氣體。
通過夾緊，可以提高晶圓表面的溫度均勻性，實現(xiàn)出色的薄膜厚度均勻性。
此外，通過防止氣體進入晶圓背面，防止背面沉積，防止顆粒粘附在晶圓上和腔室中
。
設備尺寸盡可能緊湊，占用空間*小。
密封室消除了氣體泄漏，提高了工人的**性。

性能

支持的晶圓尺寸

到 8 英寸

氣體種類

SiH4, O2, PH3, B2H6, N2 (TEOS, TEB, TMOP, O3是可選的）

沉積溫度

300～450℃

生產(chǎn)力

~15張/小時（500nm成膜時）

規(guī)格

設備尺寸 890mm(W) x 2300mm(D) x 2250mm(H)

加熱機構(gòu) 電阻加熱

卸載雙滑塊，機器人 CtoC 輸送

分散頭
（氣體噴嘴）圓形

武漢代理AMAYA天谷制作所高性能單片式常壓CVD裝置A200V

重慶代理AMAYA天谷制作所高性能單片式常壓CVD裝置A200V

云南代理AMAYA天谷制作所高性能單片式常壓CVD裝置A200V

山東代理AMAYA天谷制作所高性能單片式常壓CVD裝置A200V

浙江代理AMAYA天谷制作所高性能單片式常壓CVD裝置A200V

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產(chǎn)品名稱：AMAYA天谷制作所高性能單片式常壓CVD裝置A200V

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